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等离子去胶机

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等离子去胶机

佰富彩干法去胶主要是利用等离子去胶机去除光刻胶，原理是利用电离氧气产生的活化氧与光刻胶发生氧化反应并将其氧化成水汽和二氧化碳等排出腔室。等离子去胶的优点是去胶操作简单、去胶效率高、环保、去胶后晶圆表面干净光洁、无划痕，而且对结构的其它层无损伤。

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氧等离子体去胶机NE-Q15FH

氧等离子体去胶机NE-Q15FH 氧等离子体去胶机是利用氧等离子体中的高反应活性的单原子氧极易与光刻胶中的碳氢氧高分子化合物发生聚合物反应，从而生成易挥发性的反应物，最终达到去除光刻胶层的目的。

等离子去胶机NE-Q15H

等离子去胶机NE-Q15H 等离子去胶机主要用于于晶圆去胶或掩膜去除等工艺，其由真空与压力控制系统、圆柱状石英腔体反应腔室、工艺气体与控制系统、PLC控制系统、射频及其匹配系统等构成。

等离子去胶机NE-PE13F

等离子去胶机NE-PE13F NE-PE13F是一款高性价比的干法去胶设备，可用于尺寸8英寸及以下样品表面的活化和清洁处理。等离子去胶不仅操作简单、去胶效率高、去胶后晶圆表面干净光洁而且无划痕、成本低、环保，有利于确保产品的质量。

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